[发明专利]一种化学机械抛光保持环的清洗方法在审
| 申请号： | 202011217233.9 | 申请日： | 2020-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN112495916A | 公开（公告）日： | 2021-03-16 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;潘杰;惠宏业;王学泽;王徐 | 申请（专利权）人： | 上海江丰平芯电子科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08;B08B3/12;B08B1/04;B08B13/00 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 王岩 |
| 地址： | 201400 上海市奉贤区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种化学机械抛光保持环的清洗方法，所述清洗方法采用化学清洗液依次进行针对整体的超声清洗、针对螺纹孔的浸泡清洗以及针对整体的擦拭清洗，然后进行干燥和真空包装，完成对所述化学机械抛光保持环的清洗。所述清洗方法采用多种形式的清洗，对化学机械抛光保持环进行了全方位的清洗操作，尤其是对化学机械抛光保持环的螺纹孔内部进行了细致的浸泡清洗，有效地清除了残留在化学机械抛光保持环上的油污，提高了化学机械抛光保持环的清洗质量和清洗效果，进而防止了化学机械抛光保持环在使用过程中污染晶圆。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 保持 清洗 方法 | ||
【主权项】：
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