[发明专利]一种卵圆形微波等离子体金刚石膜沉积装置有效
申请号: | 202011189925.7 | 申请日: | 2020-10-30 |
公开(公告)号: | CN112410751B | 公开(公告)日: | 2022-04-22 |
发明(设计)人: | 刘杰;谷昊周;程知群;汤一凡;雷心晴;卢超;严丽平 | 申请(专利权)人: | 杭州电子科技大学 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/511 |
代理公司: | 浙江永鼎律师事务所 33233 | 代理人: | 陆永强 |
地址: | 310018 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种卵圆形微波等离子体金刚石膜沉积装置,谐振腔体为卵圆形,波导和短路活塞设置在谐振腔体的顶部,同轴天线贯穿波导和谐振腔体的顶端,通过同轴天线将微波能量耦合进谐振腔体,同轴天线可上下移动;边缘沉积台设置在谐振腔体的中下部,可上下移动,中心沉积台设置在边缘沉积台的中间,可上下移动;石英钟罩设置在边缘沉积台,罩在中心沉积台上;进气管穿过谐振腔体的侧面和石英钟罩的顶部将气体送入石英钟罩;出气口设置在边缘沉积台,在中心沉积台的旁边。本发明有效解决了现有技术中存在的微波输入功率较低、缺少完善的调节措施、部件距离等离子体太近等问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 圆形 微波 等离子体 金刚石 沉积 装置 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的