[发明专利]一种三维相变存储器及其制备方法有效
申请号: | 202011114967.4 | 申请日: | 2020-10-19 |
公开(公告)号: | CN111933656B | 公开(公告)日: | 2021-02-23 |
发明(设计)人: | 刘峻 | 申请(专利权)人: | 长江先进存储产业创新中心有限责任公司 |
主分类号: | H01L27/24 | 分类号: | H01L27/24;H01L45/00;B82Y30/00 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 李洋;张颖玲 |
地址: | 430014 湖北省武汉市东湖新技术开发区*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明实施例公开了一种三维相变存储器及其制备方法。其中,所述三维相变存储器包括:沿第一方向延伸的第一导电线、沿第二方向延伸的第二导电线以及位于所述第一导电线和所述第二导电线相交处的相变存储单元;其中,所述第一方向与所述第二方向平行于同一平面且彼此垂直;所述相变存储单元包括沿第三方向分布的选通层、相变存储层和第一材料电极层,所述第三方向垂直于所述第一方向和所述第二方向;所述第一材料电极层包括由多根碳纳米管沿所述第一方向及所述第二方向排列组成的碳纳米管层,每一所述碳纳米管沿所述第三方向延伸。 | ||
搜索关键词: | 一种 三维 相变 存储器 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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