[发明专利]一种垂直量子阱结构AlGaN深紫外LED及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011058528.6 申请日: 2020-09-30
公开(公告)号: CN111987194A 公开(公告)日: 2020-11-24
发明(设计)人: 蒋科;黎大兵;孙晓娟;张山丽;陈洋 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/00
代理公司: 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 代理人: 曹卫良
地址: 130033 吉林省长春*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 发明提供了一种垂直量子阱结构AlGaN深紫外LED的制备方法,属于半导体技术领域,包括在衬底上依次生长AlN模板、生长n‑AlxGa1‑xN层,接着制备n型金属接触层、第一绝缘介电掩膜层,再微米孔洞直至n‑AlxGa1‑xN层,然后在微米孔洞的全结构上继续外延生长n‑AlrGa1‑rN微米柱、制备第二绝缘介电掩膜层,再在n‑AlrGa1‑rN微米柱的侧面依次外延i‑AlyGa1‑yN/i‑AlzGa1‑zN多量子阱、i‑AlpGa1‑pN电子阻挡层、p‑AlqGa1‑qN层,最后沉积p型接触金属电极,并快速热退火处理。本发明还提供一种采用上述方法制备的垂直量子阱结构AlGaN深紫外LED,其多量子阱方向沿着非极性面方向,可避免由于极化效应引起的量子阱区域强内建电场,从而提升器件的内量子效率。
搜索关键词: 一种 垂直 量子 结构 algan 深紫 led 及其 制备 方法
【主权项】:
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