[发明专利]硅片清洗用添加剂及其应用在审
| 申请号： | 202011047269.7 | 申请日： | 2020-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN112080348A | 公开（公告）日： | 2020-12-15 |
| 发明（设计）人： | 胡聿明;杨洋;章圆圆 | 申请（专利权）人： | 常州时创能源股份有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/72 | 分类号： | C11D1/72;C11D3/20;C11D3/22;C11D3/37;C11D3/04;C11D11/00;B08B3/08 |
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| 地址： | 213300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种硅片清洗用添加剂，其各组分的质量百分含量为：苯甲酸钠2%～5%，壳聚糖1%～2%，脂肪醇聚氧乙烯醚0.5%～1%，丙三醇1%～3%，聚乙烯醇1%～3%，余量为水。在制绒工序前段进行前清洗操作时，在硅片的清洗液中加入本发明的添加剂，能减少清洗液中双氧水和碱的用量，在实际生产中，能达到降低两者原始用量的80%的水平，并且使电池效率略有提升，还能有效去除硅片表面残留的油污、手指印、粉尘等脏污，提升硅片外观洁净度和电池片良率。 | ||
| 搜索关键词： | 硅片 清洗 添加剂 及其 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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