[发明专利]一种激光冲击强化改善碳氮共渗层性能的工艺在审

专利信息
申请号: 202011039941.8 申请日: 2020-09-28
公开(公告)号: CN112144010A 公开(公告)日: 2020-12-29
发明(设计)人: 任云鹏;万瀚宇;陆恒;辛志铎;李致宇 申请(专利权)人: 江苏大学
主分类号: C23C8/32 分类号: C23C8/32;C23C8/80;C21D10/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 212013 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供了一种激光冲击强化改善碳氮共渗层性能的工艺,包括如下步骤:将退火态的靶材表面预处理;将表面处理后的靶材放入真空炉内进行碳氮共渗,将碳氮共渗后的靶材进行低温回火;在靶材表面上设置约束层,通过激光对靶材表面进行小能量高重频的激光冲击。本发明可以用于细化表层晶粒,再次提高靶材的表面硬度,并在较大的深度上产生较大的残余压应力,有利于抑制表面疲劳裂纹的产生。
搜索关键词: 一种 激光 冲击 强化 改善 碳氮共渗层 性能 工艺
【主权项】:
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