[发明专利]一种高压离子轰击的真空镀膜装置及其镀膜方法在审
| 申请号： | 202011024806.6 | 申请日： | 2020-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN112126901A | 公开（公告）日： | 2020-12-25 |
| 发明（设计）人： | 张益明;刘宇;其他发明人请求不公开姓名 | 申请（专利权）人： | 张益明 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/54 |
| 代理公司： | 太原九得专利代理事务所(普通合伙) 14117 | 代理人： | 王韶 |
| 地址： | 044602 山西省运*** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高压离子轰击的真空镀膜装置及其镀膜方法，包括底座，所述底座的上表面固定连接有主壳体，所述第一接轴和第二接轴的外表面分别焊接有第一连接杆和第二连接杆，所述第一连接杆的外表面焊接有右旋转壳体，所述第二连接杆的外表面焊接有左旋转壳体，所述主壳体的内侧壁焊接有第三电机，所述第三电机的输出轴固定连接有旋转底座；通过PLC控制器编程将所有电器元件导通，实现自动化控制。通过蒸发器馏分，将镀膜材料产生化学性的热性气体分解成对人体健康无害的不凝气与水再将其排出。其中水可以在外界提炼后循环利用，不凝气由导气管导入进设备内部提供部分热量与压力，作为废物利用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高压 离子 轰击 真空镀膜 装置 及其 镀膜 方法 | ||
【主权项】：
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