[发明专利]纳米压印工艺监测装置、方法和纳米压印设备在审
| 申请号： | 202011022126.0 | 申请日： | 2020-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN111929987A | 公开（公告）日： | 2020-11-13 |
| 发明（设计）人： | 臧法珩;赵东峰;李琨;董立超;杜凯凯;艾立夫;王喆;饶轶 | 申请（专利权）人： | 歌尔股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人： | 梁馨怡 |
| 地址： | 261031 山东省潍*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开一种纳米压印工艺监测装置、方法和纳米压印设备，其中，纳米压印工艺监测装置包括可移动的载物台、固定的光学监测台、及与光学监测台电连接的处理器，载物台用以安装待测晶圆，待测晶圆具有多个监测位置，监测位置设有PCM模块，光学监测台用于产生定向监测光路；安装有待测晶圆的载物台移动，以使待测晶圆上多个监测位置的PCM模块逐一移动至光学监测台的定向监测光路上，而使光学监测台能遍历多个监测位置，且光学监测台逐一获取多个监测位置上PCM模块所分别反馈的监测光信息，并将其传输至处理器，处理器根据其判断待测晶圆上多个监测位置是否合格。本发明的技术方案能便捷地实现对大面积晶圆全方位的实时工艺监测。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 压印 工艺 监测 装置 方法 设备 | ||
【主权项】：
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