[发明专利]一种用于硬脆材料晶片的清洗剂在审
| 申请号： | 202010900911.5 | 申请日： | 2020-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN111909797A | 公开（公告）日： | 2020-11-10 |
| 发明（设计）人： | 祁有丽;张国亮 | 申请（专利权）人： | 中科孚迪科技发展有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/72 | 分类号： | C11D1/72;C11D1/722;C11D3/04;C11D3/06;C11D3/08;C11D3/20;C11D3/22;C11D3/30;C11D3/32;C11D3/33;C11D3/34;C11D3/37;C11D3/60 |
| 代理公司： | 长沙大珂知识产权代理事务所(普通合伙) 43236 | 代理人： | 伍志祥 |
| 地址： | 410500 湖南省岳阳*** | 国省代码： | 湖南;43 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开一种用于硬脆材料晶片的清洗剂，涉及电子工业清洗技术领域。本发明公开的用于硬脆材料晶片的清洗剂，由以下重量百分比的组分组成：无机碱5‑10％，有机碱5‑10％，表面活性剂5‑10％，助溶剂3‑5％，增溶剂1‑5％，螯合剂1‑5％，抗再沉剂2‑5％，消泡剂0.5‑1％，余量为去离子水。本发明提供的用于硬脆材料晶片的清洗剂与污染物相容性好，操作安全，性能稳定，清洗效率高，使用周期长，能有效提高加工效率。本发明配方中所用到的添加剂均符合电子级别清洗要求，符合国家环保法规所规定的废水配方标准不污染水质和土壤，绿色环保。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 材料 晶片 洗剂 | ||
【主权项】：
暂无信息
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