[发明专利]一种辐照缺陷和纳米相协同演化的相场模拟方法有效

专利信息
申请号: 202010599137.9 申请日: 2020-06-28
公开(公告)号: CN111899819B 公开(公告)日: 2022-09-27
发明(设计)人: 李永胜;严正伟 申请(专利权)人: 南京理工大学
主分类号: G16C60/00 分类号: G16C60/00;G06F30/20;G06F17/11;G06F119/08;G06F119/14
代理公司: 南京理工大学专利中心 32203 代理人: 赵毅
地址: 210094 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明为一种辐照缺陷和纳米相协同演化的相场模拟方法。通过合金热力学自由能来表征系统的演变;建立辐照缺陷–合金体系的总自由能;创建辐照缺陷和纳米相共同演化的相场方程,实现辐照下合金缺陷和纳米相演化的模拟与表征;分析辐照温度和缺陷浓度变化条件下的缺陷和纳米相微观组织形貌的变化,得出辐照下缺陷和纳米析出相的演变规律;同时分析缺陷和纳米相的体积分数变化,得出不同辐照温度和缺陷浓度对缺陷和纳米相的形成及演化动力学的影响规律;本发明提供了一种辐照缺陷和纳米相协同演化的相场模拟方法,能够获得辐照下缺陷和相分解之间的相互作用关系,为辐照下合金材料的设计和服役安全提供指导。
搜索关键词: 一种 辐照 缺陷 纳米 协同 演化 模拟 方法
【主权项】:
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