[发明专利]一种光刻胶涂胶托盘的清洁装置及方法在审
申请号: | 202010578686.8 | 申请日: | 2020-06-23 |
公开(公告)号: | CN111687113A | 公开(公告)日: | 2020-09-22 |
发明(设计)人: | 王惠生;朴勇男;邢栗;蔺伟聪;张晨阳;张德强 | 申请(专利权)人: | 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;B08B13/00 |
代理公司: | 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 | 代理人: | 黄海霞 |
地址: | 110168 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明提供了一种光刻胶涂胶托盘的清洁装置及方法,所述清洁装置包括清洁盘、承片台、清洁液喷洒机构、调节旋转机构;所述清洁盘设置在所述承片台上,所述清洁盘的正面与所述承片台接触,所述清洁盘的背面朝上;所述清洁液喷洒机构设置在所述承片台外部,所述清洁液喷洒机构包括第一喷头和第二喷头,第一喷头设置在承片台外部,第一喷头的喷头朝向所述清洗盘背面,所述第二喷头的一端连接有机械手臂,机械手臂位于清洁盘背面上方的中心处,第二喷头的喷头朝向清洗盘背面;所述调节旋转机构安装在所述承片台底端,用于驱动所述承片台转动并调节转速,本发明提高了对光刻胶涂胶托盘的清洗效果,缩短了清洗时间。 | ||
搜索关键词: | 一种 光刻 涂胶 托盘 清洁 装置 方法 | ||
【主权项】:
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