[发明专利]一种阻抗匹配靶制造方法有效
| 申请号： | 202010556546.0 | 申请日： | 2020-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN111681782B | 公开（公告）日： | 2022-06-07 |
| 发明（设计）人： | 谢军;杜凯;高莎莎;郑凤成;易泰民;蒋柏斌;王红莲;何智兵;张海军;杨洪;魏胜;袁光辉;童维超;张荩月;任玮 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | G21B1/19 | 分类号： | G21B1/19;B24B1/00 |
| 代理公司： | 中国工程物理研究院专利中心 51210 | 代理人： | 刘璐;冯玲玲 |
| 地址： | 621999 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 一种阻抗匹配靶制造方法，采用单点金刚石车削技术加工标准材料台阶，采用机械研磨技术分别通过双面研磨、单面研磨、手工研磨加工待测材料薄膜，通过聚乙烯醇溶液将待测材料薄膜与标准材料台阶装配成阻抗匹配靶。本方法分别采用固态块材加工成标准材料与待测材料样品，可确保加工前后材料纯度、密度不变，满足阻抗匹配实验用靶材料尽可能为纯净密实材料的需求，降低材料密度、纯度变化造成的物理实验结果不确定度的增加，通过聚乙烯醇溶液将标准材料/待测材料样品粘接在一起，可满足标注材料与待测材料之间的力学平衡条件和界面连续条件。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阻抗匹配 制造 方法 | ||
【主权项】：
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