[发明专利]一种补偿电容结构及其容值的提升方法在审

专利信息
申请号: 202010536940.8 申请日: 2020-06-12
公开(公告)号: CN111682047A 公开(公告)日: 2020-09-18
发明(设计)人: 宋爽 申请(专利权)人: 福建华佳彩有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L49/02
代理公司: 福州市博深专利事务所(普通合伙) 35214 代理人: 林振杰
地址: 351100 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明涉及OLED技术领域,特别涉及一种补偿电容结构及其容值的提升方法,通过将电容区域结构的第一金属层、第一绝缘层、半导体层、第二金属层、第二绝缘层和第三金属层依次设置在所述电容区域结构的玻璃层表面,使得第一金属层、第一绝缘层和半导体层三者之间构成第一电容器,第二金属层、第二绝缘层和第三金属层三者之间构成第二电容器,从而使第一电容器与第二电容器之间形成相互并联的电路结构,提升了容值;本方案设计的补偿电容结构能够在现有的工艺流程的基础上节约光罩,有效地改善面板画面的均一性,提升显示质量,满足更小的电极板面积达到提升开口率的效果。
搜索关键词: 一种 补偿 电容 结构 及其 提升 方法
【主权项】:
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