[发明专利]激光转印膜有效
申请号: | 202010461517.6 | 申请日: | 2020-05-27 |
公开(公告)号: | CN112009128B | 公开(公告)日: | 2022-08-19 |
发明(设计)人: | 李广会;李惠利;朴埈佑;严相烈 | 申请(专利权)人: | 东丽尖端素材株式会社 |
主分类号: | B41M5/26 | 分类号: | B41M5/26;B41M5/46;B41M5/44 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 金玲;崔成哲 |
地址: | 韩国庆*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明公开一种激光转印膜。所述激光转印膜依次包括基材层、热膨胀性光吸收层和粘合层,其中,所述热膨胀性光吸收层在550nm的波长下具有70%以上的透光率,吸收780nm至1500nm波长范围内的光,并且由下述数学式1表示的可见光透射率和近红外透射率之间的差为9%至75%:【数学式1】可见光透射率和近红外透射率之差=透光率(@550nm)‑透光率(@1064nm)。 | ||
搜索关键词: | 激光 转印膜 | ||
【主权项】:
暂无信息
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