[发明专利]一种基于TMDCs横向PIN同质结的光电二极管及制备方法有效

专利信息
申请号: 202010438585.0 申请日: 2020-05-19
公开(公告)号: CN111628020B 公开(公告)日: 2021-10-08
发明(设计)人: 张有为;王顺 申请(专利权)人: 华中科技大学;深圳华中科技大学研究院
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/105;H01L31/18
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 许恒恒;李智
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种基于过渡金属硫族化合物(TMDCs)横向PIN同质结的光电二极管及制备方法。通过局域化表面掺杂技术,在本征或轻掺杂的TMDCs薄膜中引入P型重掺杂区与N型重掺杂区,上述两种重掺杂区与未经过局域化表面掺杂处理的本征或轻掺杂I区横向排布,构成横向PIN三明治结构,其中P型重掺杂区与N型重掺杂区各自被金属电极覆盖。P型重掺杂区、本征或轻掺杂I区与N型重掺杂区之间载流子浓度梯度引发载流子扩散,最终热平衡状态下本征或轻掺杂I区完全耗尽,内建电场基本落在I区。入射光照射下,I区TMDCs吸收入射光子产生电子‑空穴对,并在I区内建电场左右下分离、漂移,产生电压或电流在电路中输出,实现光电探测。
搜索关键词: 一种 基于 tmdcs 横向 pin 同质 光电二极管 制备 方法
【主权项】:
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