[发明专利]一种高功率毫米波功率合成系统有效

专利信息
申请号: 202010429281.8 申请日: 2020-05-19
公开(公告)号: CN111641015B 公开(公告)日: 2021-08-03
发明(设计)人: 夏冬辉;范国垚;王之江 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: H01P5/00 分类号: H01P5/00
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 李智
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种高功率毫米波功率合成系统,包括:第一相位矫正镜和第二相位矫正镜;其中,第一相位矫正镜用于矫正入射的N束高功率毫米波的幅值分布和相位分布,并将多束高功率毫米波合成为一束高功率毫米波,反射到第二相位矫正镜的第一表面;第二相位矫正镜用于进一步矫正经所述第一相位矫正镜反射的高功率毫米波的幅值分布和相位分布,得到最终的高功率毫米波,并反射出去;其中,最终的高功率毫米波束的功率为N束高功率毫米波的功率之和,模式成分为高斯基模。本发明所提出的高功率毫米波功率合成系统结构简单、体积小、研制难度低、可维护性好,能满足高功率毫米波系统对功率合成系统提出的可靠性高的要求。
搜索关键词: 一种 功率 毫米波 合成 系统
【主权项】:
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