[发明专利]用于确定电路版图约束条件的方法、设备和存储介质在审
| 申请号： | 202010415334.0 | 申请日： | 2020-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN111611766A | 公开（公告）日： | 2020-09-01 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 全芯智造技术有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/398 | 分类号： | G06F30/398;G06F111/04 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 黄倩 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥市高新区*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 根据本公开的示例实施例，提供了用于确定电路版图约束条件的方法、设备和计算机可读存储介质。一种确定电路版图约束条件的方法包括标识参考电路版图中的多个边界元素，边界元素表示参考电路版图中的相应参考几何图形的边界的至少一部分。该方法还包括基于多个边界元素在参考电路版图中的位置，确定多个边界元素彼此之间的距离。该方法进一步包括基于确定的距离确定与待检查的电路版图中的至少一个几何图形的尺寸和/或位置相关的约束条件，以用于检查电路版图。以此方式，可以减少获取版图检查所使用的约束条件花费的成本，并且有助于进行更客观和准确的电路版图检查。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 确定 电路 版图 约束条件 方法 设备 存储 介质 | ||
【主权项】：
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