[发明专利]集成电路版图重建方法、装置、电子设备和存储介质在审

专利信息
申请号: 202010146378.8 申请日: 2020-03-05
公开(公告)号: CN111445396A 公开(公告)日: 2020-07-24
发明(设计)人: 王力纬;孙宸;侯波;雷登云;恩云飞 申请(专利权)人: 中国电子产品可靠性与环境试验研究所((工业和信息化部电子第五研究所)(中国赛宝实验室))
主分类号: G06T5/00 分类号: G06T5/00;G06T3/40;G06T7/00
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 熊文杰
地址: 511300 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种集成电路版图重建方法、装置、电子设备和存储介质,集成电路版图重建方法包括:获取待重建集成电路版图的第一图像;根据预设的纠偏规则对第一图像进行处理,以获取第二图像,纠偏规则用于校正第一图像的畸变;根据预设的重建模型对第二图像进行处理,以获取第三图像,重建模型用于提高第二图像的分辨率。基于预设的纠偏规则对第一图像进行处理,解决了扫描电子显微镜获取的第一图像的畸变问题,使第二图像能够真实地反映实际电路分布情况,从而避免了第一图像畸变的质量问题对重建图像的准确度的影响,进一步地,再利用预设的重建模型根据低分辨率的第二图像获取高分辨率的第三图像,降低了获取高分辨率图像的设备成本。
搜索关键词: 集成电路 版图 重建 方法 装置 电子设备 存储 介质
【主权项】:
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