[发明专利]一种可用于掩模版缺陷检测的快速多图拼接方法在审

专利信息
申请号: 202010099560.2 申请日: 2020-02-18
公开(公告)号: CN111260561A 公开(公告)日: 2020-06-09
发明(设计)人: 魏宏斌;胡松;刘磊;位浩杰;赵立新;唐燕 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G06T3/40 分类号: G06T3/40;G06T7/00;G06T7/30
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种可用于掩模版缺陷检测的快速多图拼接方法,在掩模图像采集中,精密工件台呈横向纵向平移的工作模式,相邻两幅图像存在大量重复特征和横纵向的偏移。在掩模图像拼接过程中,针对掩模图像大数据量,单元重复,旋转尺度变化小等特征,根据步距预设图像重叠区域作为ROI区域,确定前后两幅图像的对应关系按照顺序拼接两幅图像后,将此图像作为原图,后一张图像作为待匹配图像,重新划定ROI区域,每次拼接只对固定数据量的ROI区域和后一张图像进行变换处理,避免了因图像数量增加所导致的速度降低和数据溢出等问题,大幅提高了拼接速度,避免了特征匹配重复图形误匹配的问题,拼接效果良好。
搜索关键词: 一种 用于 模版 缺陷 检测 快速 拼接 方法
【主权项】:
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