[发明专利]一种基于范德华异质结的非易失光存储单元及其制备方法有效
申请号: | 202010096346.1 | 申请日: | 2020-02-17 |
公开(公告)号: | CN111276561B | 公开(公告)日: | 2023-05-02 |
发明(设计)人: | 彭波;周思宇;王雅倩 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | H01L31/108 | 分类号: | H01L31/108;H01L31/02;H01L31/0216;H01L31/0352;H01L31/18;B82Y30/00;B82Y40/00;G11C13/04 |
代理公司: | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人: | 闫树平 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明涉及半导体光存储器技术领域,尤其涉及一种基于范德华异质结的非易失光存储单元及其制备方法。本发明器件包括两个电极、两层石墨烯层以及量子点层;量子点层设置于两层石墨烯层之间,构成石墨烯/量子点/石墨烯的三层垂直异质结构,层与层之间的界面态俘获电荷载流子使得整个非易失光存储单元具有非易失光存储的特性;两电极分别制作在两层石墨烯上。本发明基于层间界面态俘获电子的基本原理实现了单元非易失多级光存储的特性。该非易失光存储单元结构简单,稳定性强,能耗低,能与目前的CMOS工艺兼容,且具有多级存储的特性。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 范德华异质结 非易失光 存储 单元 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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