[发明专利]蒸镀掩模装置、掩模支承机构及蒸镀掩模装置的制造方法在审

专利信息
申请号: 202010081387.3 申请日: 2020-02-06
公开(公告)号: CN111534788A 公开(公告)日: 2020-08-14
发明(设计)人: 青木大吾;池永知加雄;井上功 申请(专利权)人: 大日本印刷株式会社
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24;C23C14/12
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 邓毅;黄纶伟
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供蒸镀掩模装置、掩模支承机构及蒸镀掩模装置的制造方法。蒸镀掩模装置具备:框架;支承体,其具有固定于框架的多个支承部件;以及蒸镀掩模,其固定于框架。多个支承部件至少包含:第1支承部件,其最接近框架的第3部分与第4部分的中间位置;和第2支承部件,其比第1支承部件靠框架的第3部分侧。第1支承部件在从框架向下方以第1挠曲量挠曲的状态下从下方支承蒸镀掩模,第2支承部件在从框架向下方以比第1挠曲量小的第2挠曲量挠曲的状态下从下方支承蒸镀掩模。
搜索关键词: 蒸镀掩模 装置 支承 机构 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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