[发明专利]一种用于硅片次品回收用清洗装置在审
申请号: | 202010044465.2 | 申请日: | 2020-01-16 |
公开(公告)号: | CN111195628A | 公开(公告)日: | 2020-05-26 |
发明(设计)人: | 张利红 | 申请(专利权)人: | 张利红 |
主分类号: | B08B3/10 | 分类号: | B08B3/10;B08B3/14;B08B1/02 |
代理公司: | 北京艾皮专利代理有限公司 11777 | 代理人: | 郭童瑜 |
地址: | 741031 甘肃*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种用于硅片次品回收用清洗装置,包括清洗机构,还包括底板,所述清洗机构包括四个支撑柱和管形的壳体,所述壳体靠近底端的内壁固定连接有同一个斜淌板,壳体的两侧内壁固定连接有多个垫放条,垫放条的顶部放置有同一个网箱,网箱内设有多个等距离分布的分隔机构,分隔机构包括分隔板和多个横杆,分隔板和横杆的两端分别与壳体的两侧内壁固定连接,相邻的两个横杆相对的一侧外壁固定连接有多个竖杆。本发明是一种用于硅片次品回收用清洗装置,装置可以将硅片次品分隔开,并对硅片次品的表面进行冲洗和刷洗,提高了装置对硅片次品清洗的充分性。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 硅片 次品 回收 清洗 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于张利红,未经张利红许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010044465.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。