[发明专利]一种基于双脉冲技术在磁钢表面沉积Ni层的方法在审
| 申请号： | 202010034639.7 | 申请日： | 2020-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN111074305A | 公开（公告）日： | 2020-04-28 |
| 发明（设计）人： | 杨斌;卢耀军;钟淑伟;罗三根;吴悦;杨牧南 | 申请（专利权）人： | 江西理工大学 |
| 主分类号： | C25D3/12 | 分类号： | C25D3/12;C25D5/18;C25D5/36 |
| 代理公司： | 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 11003 | 代理人： | 张永革 |
| 地址： | 341000 *** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本发明为一种基于双脉冲技术在磁钢表面沉积Ni层的方法，实现了采用脉冲电沉积设备在钕铁硼磁钢表面沉积单层Ni层的制备工艺，其具体的制备过程包括以下工艺：磁钢前处理工艺包括打磨、除油、酸洗、活化等。在沉积阶段采用脉冲沉积设备通过调控工艺参数，在磁体钢表面制备出致密、低孔隙率和小晶粒尺寸的单层镍，解决传统直流电镀中单层Ni针孔现象，降低了Ni沉积层与基体的释氢‑吸氢循环现象，提升Ni层的耐盐雾腐蚀能力。在磁钢表面制备出高性能沉积层，实现制备高结合力、表面质量和耐腐蚀性能的单层Ni均匀沉积层，同时相比传统电镀能够极大地提升沉积效率，节约了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 脉冲 技术 磁钢 表面 沉积 ni 方法 | ||
【主权项】：
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