[发明专利]一种金属羟基氧化物复合B-BiVO4在审

专利信息
申请号: 202010029182.0 申请日: 2020-01-10
公开(公告)号: CN111146004A 公开(公告)日: 2020-05-12
发明(设计)人: 陶霞;康自虎;郑言贞;周军帅 申请(专利权)人: 北京化工大学
主分类号: H01G9/042 分类号: H01G9/042;H01G9/20
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 张立改
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种金属羟基氧化物复合B‑BiVO4光电阳极及其制备方法,属于电极材料制备领域。将纯BiVO4光电阳极浸泡在硼酸盐溶液中(表示B‑BiVO4),在其表面上吸附[B(OH)4]配体作为钝化剂,提高光生载流子的分离效率并促进表面空穴的提取;然后,在经硼酸盐改性后的BiVO4光电阳极上原位生长助催化剂金属羟基氧化物(如羟基氧化铁、羟基氧化钴、羟基氧化镍等),增加光电阳极表面活性位点,加速空穴在光电阳极与电解质界面的传输,从而提高BiVO4的光电水氧化性能。基于光生电荷的有效分离、空穴在光电阳极与电解质界面的快速传输,所制备的金属羟基氧化物复合B‑BiVO4光电阳极能够高效运用于光电化学水分解。
搜索关键词: 一种 金属 羟基 氧化物 复合 bivo base sub
【主权项】:
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