[发明专利]镀膜设备在审
申请号: | 202010025246.X | 申请日: | 2020-01-10 |
公开(公告)号: | CN111020527A | 公开(公告)日: | 2020-04-17 |
发明(设计)人: | 吴兰峰;卢林;蒋秀林 | 申请(专利权)人: | 晶澳(扬州)太阳能科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30;C23C16/56;C23C16/02;C23C16/54 |
代理公司: | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人: | 徐颖聪 |
地址: | 225131 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及镀膜设备,所述镀膜设备包括:镀膜装置,所述镀膜装置用于在被镀膜件的表面进行镀膜;退火装置,所述退火装置用于对表面镀膜的被镀膜件进行退火处理;输送机构,所述输送机构用于输送所述被镀膜件依次通过所述镀膜装置以及所述退火装置。本发明实施例的镀膜设备,集成了镀膜装置和退火装置,降低了设备成本,节约了生产场地,且较大的提高了生产效率,进而提高了产能。 | ||
搜索关键词: | 镀膜 设备 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的