[发明专利]具有优化几何结构以降低辐射效应引起的偏移的MEMS设备在审
申请号: | 202010015562.9 | 申请日: | 2020-01-07 |
公开(公告)号: | CN111410167A | 公开(公告)日: | 2020-07-14 |
发明(设计)人: | F·里奇尼;A·托齐奥 | 申请(专利权)人: | 意法半导体股份有限公司 |
主分类号: | B81B5/00 | 分类号: | B81B5/00;B81B7/00;B81B7/02 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 王茂华;李春辉 |
地址: | 意大利阿格*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本公开涉及具有优化几何结构以降低辐射效应引起的偏移的MEMS设备。具有跷跷板结构的MEMS设备包括可移动质量块,可移动质量块具有在平面中的面积、以及在垂直于该平面的方向上的厚度。可移动质量块绕平行于该平面延伸的旋转轴是可倾斜的,并且由被布置在旋转轴的相对侧的第一和第二半质量块形成。第一和第二半质量块分别具有第一和第二形心,该第一和第二形心被分别布置在距旋转轴的第一距离b1和第二距离b2处。第一贯穿开口被形成在第一半质量块中,并且连同第一半质量块一起具有在平面中的第一总周长p1。第二贯穿开口被形成在第二半质量块中,并且连同第二半质量块一起具有在平面中的第二总周长p2,其中第一周长p1和第二周长p2满足以下方程:p1×b1=p2×b2。 | ||
搜索关键词: | 具有 优化 几何 结构 降低 辐射 效应 引起 偏移 mems 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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