[发明专利]分析装置在审

专利信息
申请号: 201980093517.0 申请日: 2019-08-13
公开(公告)号: CN113518913A 公开(公告)日: 2021-10-19
发明(设计)人: 石川丈宽 申请(专利权)人: 株式会社岛津制作所
主分类号: G01N23/2252 分类号: G01N23/2252;H01J37/24;H01J37/252
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 带电粒子束照射装置构成为向试样照射带电粒子束并检测从试样释放的信号。第一处理部(10)构成为能够与第一输入设备(11)进行通信,根据来自第一输入设备(11)的信号,并基于带电粒子束照射装置的检测信号对试样进行分析。第二处理部(20)构成为能够与第二输入设备(21)及第一处理部(10)进行通信,根据带电粒子束照射装置的检测信号来生成试样的观察图像,并且根据来自第二输入设备(21)的信号控制带电粒子束照射装置。第二输入设备(21)包括指示设备。第二处理部(20)将针对指示设备的操作输入转换为对带电粒子束照射装置的控制信号。
搜索关键词: 分析 装置
【主权项】:
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