[发明专利]多层涂膜形成方法在审

专利信息
申请号: 201980055374.4 申请日: 2019-05-20
公开(公告)号: CN112654435A 公开(公告)日: 2021-04-13
发明(设计)人: 冈崎纮和;成田信彦 申请(专利权)人: 关西涂料株式会社
主分类号: B05D1/36 分类号: B05D1/36;B05D3/00;B05D5/06;B05D7/24;B32B27/00;B32B27/18;B32B27/20;C09D7/43;C09D7/61;C09D175/04;C09D201/00
代理公司: 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 代理人: 刘小峰;张元
地址: 日本国兵库*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明目的在于提供一种光辉性优异的多层涂膜形成方法。具体而言,作为解决方法,提供有一种多层涂膜形成方法,依次包含下述的工序(1)~(3):(1)在被涂覆物上涂覆基底涂料(X)来形成基底涂膜的工序;(2)涂覆光辉性颜料分散体(Y)来形成光辉性涂膜的工序;(3)涂覆透明涂料(Z)来形成透明涂膜的工序,光辉性颜料分散体(Y)为含有鳞片状光辉性颜料(A)的光辉性颜料分散体,鳞片状光辉性颜料(A)的厚度T为1~65nm,在将存在于多层涂膜的全部光辉性颜料投影到多层涂膜的表面上时,光辉性颜料投影在多层涂膜表面上的部分所占的面积占有率R为0.1~50%,且所述T及R满足以下的主要条件(1),T(nm)×R(%)≦2000…(1)。
搜索关键词: 多层 形成 方法
【主权项】:
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