[发明专利]用于形成微细相分离图案的嵌段共聚物层形成用组合物有效
| 申请号： | 201980047679.0 | 申请日： | 2019-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN112771091B | 公开（公告）日： | 2023-09-12 |
| 发明（设计）人： | 水落龙太;染谷安信;若山浩之;小泽征巳;田所真介 | 申请（专利权）人： | 日产化学株式会社 |
| 主分类号： | C08F297/02 | 分类号： | C08F297/02;C08F212/14;C08F220/18;C08F222/40;C08F230/08;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 李渊茹;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
提供用于使包含嵌段共聚物的层的、更微细的微相分离结构相对于基板垂直诱导的自组装化膜形成用组合物。此外，提供利用了那样的组合物的嵌段共聚物的相分离图案制造方法以及半导体装置的制造方法。一种自组装化膜形成用组合物，其包含嵌段共聚物和溶剂，其用于在基板上形成嵌段共聚物层的相分离结构，上述嵌段共聚物为使不含硅聚合物与下述含硅聚合物结合而成的嵌段共聚物，所述含硅聚合物以被含硅基团取代了的苯乙烯作为结构单元，上述不含硅聚合物包含来源于下述式(1‑1)或式(1‑2)的结构，上述含硅基团包含1个硅原子。(在式(1‑1)或式(1‑2)中，R |
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| 搜索关键词： | 用于 形成 微细 分离 图案 共聚物 组合 | ||
【主权项】：
暂无信息
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