[实用新型]新型二维磁光阱的光机装置有效

专利信息
申请号: 201920425605.3 申请日: 2019-03-29
公开(公告)号: CN209803572U 公开(公告)日: 2019-12-17
发明(设计)人: 张辉;王心亮;施俊如;白杨;张首刚 申请(专利权)人: 中国科学院国家授时中心;中国科学院大学
主分类号: G04F5/14 分类号: G04F5/14;G02B27/28
代理公司: 61201 西安永生专利代理有限责任公司 代理人: 郝燕燕
地址: 710600 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 新型二维磁光阱的光机装置,安装平台上中部设置有二维磁光阱腔,位于二维磁光阱腔的右前侧设有一体化准直镜A,一体化准直镜A8出射的光斑穿过二维磁光阱腔的前后两侧矩形窗口照射在位于二维磁光阱腔后侧的第一45度高反镜组A,位于二维磁光阱腔前侧45度高反镜组A反射光出射方向依次设有四分之一波片A和零度高反镜A;位于二维磁光阱腔的右下方设有一体化准直镜B,一体化准直镜B出射的光斑穿过二维磁光阱腔的上下侧矩形窗口照射在位于二维磁光阱腔上方设的第一45度高反镜组B,位于二维磁光阱腔下方第一45度高反镜组B反射光出射方向依次设有四分之一波片B和零度高反镜B。
搜索关键词: 磁光阱 二维 准直镜 出射 一体化 四分之一波片 光斑 零度 矩形窗口 反射光 高反镜 照射 穿过 安装平台 光机装置
【主权项】:
1.一种新型二维磁光阱的光机装置,其特征在于:安装平台(5)上中部设置有二维磁光阱腔(1),位于二维磁光阱腔(1)的右前侧安装平台(5)上设置有一体化准直镜A(8),一体化准直镜A(8)出射的光斑穿过二维磁光阱腔(1)的前后两侧矩形窗口照射在位于二维磁光阱腔(1)后侧安装平台(5)上设置的第一45度高反镜组A(3),第一45度高反镜组A(3)由两个夹角为90°的45度高反镜组成,位于二维磁光阱腔(1)前侧第一45度高反镜组A(3)反射光出射方向安装平台(5)上依次设置有四分之一波片A(10)和零度高反镜A(9);/n位于二维磁光阱腔(1)的右下方安装平台(5)上设置有一体化准直镜B(4),一体化准直镜B(4)出射的光斑穿过二维磁光阱腔(1)的上下侧矩形窗口照射在位于二维磁光阱腔(1)上方安装平台(5)上设置的第一45度高反镜组B(2),位于二维磁光阱腔(1)下方第一45度高反镜组B(2)反射光出射方向安装平台(5)上依次设置有四分之一波片B(7)和零度高反镜B(6);所述的一体化准直镜B(4)、第一45度高反镜组B(2)、四分之一波片B(7)、零度高反镜B(6)与一体化准直镜A(8)、第一45度高反镜组A(3)、四分之一波片A(10)、零度高反镜A(9)对应相等;/n所述的一体化准直镜B(4)的结构为镜筒(4-2)一端端盖上设置有光纤接头(4-1),镜筒(4-2)内沿着光的传输方向依次设置第一宽带偏振分光棱镜(4-3)、二分之一波片(4-4)、第二宽带偏振分光棱镜(4-5)、双胶合透镜(4-6)、四分之一波片(4-7)。/n
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