[发明专利]一种光罩修正方法及系统

摘要

本发明实施例涉及半导体领域，公开了一种光罩修正方法及系统。本发明中，根据待测光罩的规格参数获取与待测光罩对应的对照参数，对照参数为具有规格参数的标准光罩的目标特征尺寸信息；通过根据所述待测光罩的分析检测报告，解析出待测光罩的待测特征尺寸信息，与目标特征尺寸信息进行比较分析，使得在待测光罩投入产品制造之前，根据待测光罩的特征尺寸信息与标准光罩的特征尺寸信息之间的差异对该待测光罩进行修正，从而实现提前预防并降低该光罩存在的风险，达到提前预防的目的。