[发明专利]一种电化学抛光装置及方法在审
| 申请号： | 201911035459.4 | 申请日： | 2019-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN110670117A | 公开（公告）日： | 2020-01-10 |
| 发明（设计）人： | 范峰;许宝霞;蔡传兵;郭艳群;豆文芝;严云涛 | 申请（专利权）人： | 上海上创超导科技有限公司 |
| 主分类号： | C25F3/22 | 分类号： | C25F3/22;C25F7/00 |
| 代理公司： | 31113 上海浦东良风专利代理有限责任公司 | 代理人： | 张劲风 |
| 地址： | 201400 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种电化学抛光装置及方法。主要解决现在抛光液利用率低、电流场不均匀等技术问题，本发明电化学抛光装置包括：横向穿设于槽体的三个电解槽，槽体两端封板设有金属基带入口和金属基带出口，三个电解槽由并排设置的两组导流板腔分割而成，两个导流板腔之间留有金属基带通道，金属基带入口、金属基带通道、金属基带出口在同一轴线上，导流板腔底部设有进液口，导流板腔封板上设有流动孔，导流板腔位于槽体侧封板下部设有排液口，槽体两端设有正电极，槽体中间侧封板上设有负电极，金属基带横向穿越槽体。本发明还公开电化学抛光方法，包括：抛光液配方，金属基带预清洗，抛光工艺设计，后清洗等。本发明可实现低能耗高效率的金属基带抛光生产。 | ||
| 搜索关键词： | 金属基带 导流板 槽体 电化学抛光装置 侧封板 电解槽 抛光液 电化学抛光 并排设置 槽体中间 横向穿越 两端封板 抛光工艺 同一轴线 不均匀 低能耗 电流场 负电极 高效率 进液口 流动孔 排液口 预清洗 正电极 抛光 穿设 封板 两组 出口 配方 清洗 分割 生产 | ||
【主权项】：
1.一种电化学抛光装置，其特征是：包括横向穿设于槽体的三个电解槽，槽体两端封板设有金属基带入口和金属基带出口，三个电解槽由并排设置的两组导流板腔分割而成，两个导流板腔之间留有金属基带通道，金属基带入口、金属基带通道、金属基带出口在同一轴线上，导流板腔底部设有进液口，导流板腔封板上设有流动孔，导流板腔位于槽体侧封板下部设有排液口，槽体两端设有正电极，槽体中间侧封板上设有负电极，金属基带横向穿越槽体。/n
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