[发明专利]一种低损耗红外高非线性光波导制备方法在审
| 申请号： | 201911008162.9 | 申请日： | 2019-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN110727052A | 公开（公告）日： | 2020-01-24 |
| 发明（设计）人： | 张斌;曾平羊;李朝晖;夏迪;杨泽林;宋景翠;朱莺 | 申请（专利权）人： | 中山大学 |
| 主分类号： | G02B6/136 | 分类号： | G02B6/136;G02B6/13 |
| 代理公司： | 44102 广州粤高专利商标代理有限公司 | 代理人： | 王晓玲 |
| 地址： | 510275 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及片上波导的微纳加工领域，特别是一种低损耗红外高非线性光波导制备方法。包括以下步骤：S1.分析硫系光波导在红外波段光波的传输特性；S2.分析电子束曝光各个参数及电子束胶种类对硫系波导制备的影响，选择合适的曝光参数及电子束胶种类进行掩膜版制备，并通过等离子体反应刻蚀，实现波导的制备；S3.其次，通过旋涂法实现聚合物包层的生长；S4.最终，结合包层热退火工艺重新对波导侧壁进行光滑化，并通过截断法进行损耗测试。本发明通过优化电子束曝光及调整等离子体反应的刻蚀参数，并结合热退火工艺，实现一种超低损耗的片上硫系波导制备，适合大规模的高非线性光子集成器件制备。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 波导 硫系 等离子体反应 电子束曝光 电子束胶 高非线性 热退火 光子集成器件 光波导制备 聚合物包层 波导侧壁 超低损耗 传输特性 红外波段 刻蚀参数 曝光参数 损耗测试 微纳加工 光波 低损耗 光波导 光滑化 旋涂法 掩膜版 截断 包层 刻蚀 分析 生长 优化 | ||
【主权项】：
1.一种低损耗红外高非线性光波导制备方法，其特征在于，包括以下步骤：/nS1.分析硫系光波导在红外波段光波的传输特性；/nS2.分析电子束曝光各个参数及电子束胶种类对硫系波导制备的影响，并通过等离子体反应刻蚀，实现波导的制备；/nS3.通过旋涂法实现聚合物包层的生长；/nS4.结合包层热退火工艺，将波导器件放置于退火炉中加热到超过硫系材料的玻璃化转变温度，从而使波导处于熔融状态，并在表面张力的作用下使其侧壁变的相对光滑，并通过截断法进行损耗测试。/n
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