[发明专利]一种镀层孔隙率低的钢铁件无氰电镀锡青铜电镀液在审

专利信息
申请号: 201910952237.2 申请日: 2019-10-09
公开(公告)号: CN110528032A 公开(公告)日: 2019-12-03
发明(设计)人: 范成勇 申请(专利权)人: 范成勇
主分类号: C25D3/58 分类号: C25D3/58
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 230088 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种镀层孔隙率低的钢铁件无氰电镀锡青铜电镀液,以水为溶剂,按质量浓度计,包括如下组分:硫酸铜30‑45g/L、硫酸亚锡3‑5g/L、硫代硫酸钠40‑80g/L、R‑联萘酚5‑8g/L、三乙醇胺5‑8g/L、琥珀酰亚胺2‑5g/L、磷酸氢二钠30‑50g/L、抗坏血酸10‑15g/L。本发明的有益效果是,相比于现有技术大大降低了镀层的孔隙率,非常适合于耐腐蚀性能要求高的钢铁件的施镀,解决了现有技术中存在的技术问题。
搜索关键词: 钢铁件 磷酸氢二钠 硫代硫酸钠 耐腐蚀性能 琥珀酰亚胺 镀层孔隙 抗坏血酸 硫酸亚锡 三乙醇胺 无氰电镀 电镀液 孔隙率 联萘酚 硫酸铜 浓度计 锡青铜 溶剂 镀层 施镀
【主权项】:
1.一种镀层孔隙率低的钢铁件无氰电镀锡青铜电镀液,其特征在于,以水为溶剂,按质量浓度计,包括如下组分:/n硫酸铜30-45g/L/n硫酸亚锡3-5g/L/n硫代硫酸钠 40-80g/L/nR-联萘酚 5-8g/L/n三乙醇胺 5-8g/L/n琥珀酰亚胺 2-5g/L/n磷酸氢二钠 30-50g/L/n抗坏血酸 10-15g/L。/n
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