[发明专利]一种含偶氮基团的聚对-羟基苯乙烯衍生物、其制备方法及其在抗反射涂层中的应用有效
| 申请号： | 201910883984.5 | 申请日： | 2019-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN110590976B | 公开（公告）日： | 2020-12-25 |
| 发明（设计）人： | 王力元;尤凤娟 | 申请（专利权）人： | 北京师范大学 |
| 主分类号： | C08F8/30 | 分类号： | C08F8/30;C08F112/14;C09D125/18;G03F7/004 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100875 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种含偶氮基团的聚对‑羟基苯乙烯衍生物、其制备方法及其在光刻胶用抗反射涂层中的应用。以芳胺为起始原料，依次经过重氮化反应、与聚对‑羟基苯乙烯(PHS)的偶合反应得到高分子偶氮聚合物。具体包括：将芳胺溶于强酸水溶液中，加入亚硝酸钠水溶液反应得到重氮盐水溶液；将PHS溶于碱水中，加重氮盐溶液反应得到高分子偶氮聚合物；经酸化、过滤、洗涤和干燥得到侧链含偶氮基团的聚对‑羟基苯乙烯衍生物。这种聚合物不仅含有芳环、偶氮共轭基团，通过引入羰基、烷氧基等基团使其在紫外区有强的吸收；而且由于PHS的存在，使其与常用的以酚树脂为主体材料的紫外光刻胶具有良好的相容性。可作为光吸收剂应用于光刻胶用底部抗反射涂层中。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 偶氮 基团 羟基 苯乙烯 衍生物 制备 方法 及其 反射 涂层 中的 应用 | ||
【主权项】：
1.一种含偶氮基团的聚对-羟基苯乙烯衍生物，具有如通式(I)所示的结构：/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京师范大学，未经北京师范大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910883984.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种药用聚乙烯醇及其制备方法
- 下一篇：一种两性离子交换树脂及其制备方法
