[发明专利]一种用于版辊的去镀镍改底铜镀液、方法以及生产线在审
| 申请号： | 201910692262.1 | 申请日： | 2019-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN110306215A | 公开（公告）日： | 2019-10-08 |
| 发明（设计）人： | 原少杰 | 申请（专利权）人： | 东光运城制版有限公司 |
| 主分类号： | C25D3/38 | 分类号： | C25D3/38;C25D19/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 061600 河北省*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明公开的一种用于版辊的去镀镍改底铜镀液、方法以及生产线，其由以下成分组成：400‑500ml/L无氰铜开缸剂；45‑55ml/L光亮剂；30‑50ml/添加剂；10‑15ml/L酸碱调节剂；其余为水；所述无氰铜开缸剂为硫酸铜、氯化铜、硝酸铜中的一种或者多种的混合物，所述镀液中铜离子的含量为8‑12g/L；所述光亮剂为巯基苯并咪唑、巯基苯并噻唑、苯并三氮唑中的一种或者多种的混合物，所述镀液中光亮剂的含量为100‑150g/L；所述添加剂由以下组分以及重量百分比含量的原料配制得到：聚乙二醇1000∶0.7‑1.5％、聚二硫二丙烷磺酸钠：0.8‑1.3％，余量为纯水；所述酸碱调节剂为硫酸和氢氧化钠，二者的添加量以维持镀液的PH值为9.5‑10为准。本发明取消了传统的镀镍工艺，并以底铜工艺所代替，解决了含镍废水难处理的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 光亮剂 镀镍 镀液 酸碱调节剂 混合物 开缸剂 铜镀液 版辊 氰铜 添加剂 聚二硫二丙烷磺酸钠 巯基苯并咪唑 巯基苯并噻唑 苯并三氮唑 重量百分比 含镍废水 聚乙二醇 氢氧化钠 原料配制 传统的 硫酸铜 氯化铜 添加量 铜离子 硝酸铜 硫酸 | ||
【主权项】：
1.一种用于版辊的去镀镍改底铜镀液，其特征在于，其由以下成分组成：400‑500ml/L无氰铜开缸剂；45‑55ml/L光亮剂；30‑50ml/添加剂；10‑15ml/L酸碱调节剂；其余为水；所述无氰铜开缸剂为硫酸铜、氯化铜、硝酸铜中的一种或者多种的混合物，所述镀液中铜离子的含量为8‑12g/L；所述光亮剂为巯基苯并咪唑、巯基苯并噻唑、苯并三氮唑中的一种或者多种的混合物，所述镀液中光亮剂的含量为100‑150g/L；所述添加剂由以下组分以及重量百分比含量的原料配制得到：聚乙二醇1000：0.7‑1.5％、聚二硫二丙烷磺酸钠：0.8‑1.3％，余量为纯水；所述酸碱调节剂为硫酸和氢氧化钠，二者的添加量以维持镀液的PH值为9.5‑10为准。
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