[发明专利]窄半峰宽量子点的制备方法、量子点以及量子点光电器件有效

专利信息
申请号: 201910576069.1 申请日: 2019-06-28
公开(公告)号: CN110408379B 公开(公告)日: 2023-09-26
发明(设计)人: 周健海;邵蕾;何洋 申请(专利权)人: 纳晶科技股份有限公司
主分类号: C09K11/02 分类号: C09K11/02;C09K11/88;B82Y20/00;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310052 浙江省杭州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种窄半峰宽量子点的制备方法、量子点以及量子点光电器件。其中,窄半峰宽量子点的制备方法,包括以下步骤:在220℃~310℃条件下,将硒前体与镉前体混合,反应后得到含有小尺寸CdSe的第一体系,第一体系中还包括未反应完的镉前体和硒前体;在220℃~310℃条件下,将硫前体或锌前体加入第一体系中,反应后得到含有窄半峰宽量子点的第二体系。本发明提供的量子点制备方法有利于提高量子点的组分均一性,减少量子点合成过程中的自成核现象,从而可获得窄半峰宽量子点。
搜索关键词: 窄半峰宽 量子 制备 方法 以及 光电 器件
【主权项】:
1.一种窄半峰宽量子点的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:分别提供镉前体、硒前体以及第一硫前体;在220℃~310℃条件下,将所述硒前体与所述镉前体混合,反应后得到含有小尺寸CdSe的第一体系,所述第一体系中还包括未反应完的所述镉前体和所述硒前体;在220℃~310℃条件下,将所述第一硫前体加入所述第一体系中,反应后得到含有窄半峰宽量子点的第二体系。
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