[发明专利]腔室压力控制方法及装置、半导体设备有效
| 申请号： | 201910314577.2 | 申请日： | 2019-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN111831022B | 公开（公告）日： | 2022-03-18 |
| 发明（设计）人： | 郑文宁;赵迪;陈正堂 | 申请（专利权）人： | 北京七星华创流量计有限公司 |
| 主分类号： | G05D16/20 | 分类号： | G05D16/20;C23C14/54;C23C16/52 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京市北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种腔室压力控制方法及装置、半导体设备，该方法包括以下步骤：S1，检测腔室内部的实际压力值；S2，计算实际压力值与预设的目标压力值的差值；判断差值是否超出预设范围，若超出，则进行步骤S3；若未超出，则流程结束；S3，获取控制系数，该控制系数为曲率与预设的PID系数的乘积，该曲率为与当前的气体流量值对应的关于压力和位置参数的曲线中，与执行单元的当前的位置参数值相对应的曲率；S4，基于差值和控制系数计算获得执行单元的位置参数调整量，向该执行单元输出，返回步骤S2。本发明提供的腔室压力控制方法及装置、半导体设备的技术方案，可以精确快速的控制腔室内压力，使之稳定在预设范围内，从而可以提高工艺质量和成品率。 | ||
| 搜索关键词： | 压力 控制 方法 装置 半导体设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京七星华创流量计有限公司，未经北京七星华创流量计有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910314577.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
