[发明专利]一种基于超滑结构形成的接触式磁头滑块有效

专利信息
申请号: 201910233600.5 申请日: 2019-03-26
公开(公告)号: CN109949832B 公开(公告)日: 2021-06-04
发明(设计)人: 杨德智;张清卿 申请(专利权)人: 北京清正泰科技术有限公司
主分类号: G11B5/187 分类号: G11B5/187
代理公司: 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 代理人: 陈超
地址: 100084 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 以现有磁头滑块为基础,对其进行刻蚀形成多个直径约为几十微米的凹槽,无需再进行气垫面刻蚀。超滑结构基底选择具有一定刚度并且具有原子级平整的材料,尺寸比磁头滑块凹槽略小,在超滑结构基底材料底部进行刻蚀形成多个比超滑片尺寸稍大的凹槽,将超滑片通过点胶技术粘接于超滑结构基底的凹槽中,通过适当的压力使胶滴固化并使超滑片底部处于同一高度,再将带有超滑片的超滑结构基底粘接于磁头滑块凹槽中。
搜索关键词: 一种 基于 结构 形成 接触 磁头
【主权项】:
1.一种接触式硬盘的磁头,包括磁头滑块和极尖,其特征在于:所述磁头滑块包括:滑块基底和至少一个超滑结构,其中所述超滑结构包括:超滑结构基底和多个超滑片,所述多个超滑片设置在所述超滑结构基底上,多个所述超滑片以超滑面距离超滑结构基底表面的高度可进行调节的方式设置在超滑结构基底上。
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