[发明专利]基于哈特曼光线追迹的非均匀介质场的测量系统及其方法有效
| 申请号： | 201910164088.3 | 申请日： | 2019-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN109883995B | 公开（公告）日： | 2021-06-29 |
| 发明（设计）人： | 孔明;王道档;单良;赵军;许新科;刘维;徐平;龚志东 | 申请（专利权）人： | 中国计量大学 |
| 主分类号： | G01N21/41 | 分类号： | G01N21/41 |
| 代理公司： | 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 | 代理人： | 杨乐 |
| 地址： | 310018 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种基于哈特曼光线追迹的非均匀介质场的测量系统及其方法，包括内部存在非均匀介质场的测量空间、用于向测量空间射出与光轴形成偏转角为θ的入射光线的投影屏、用于对入射光线穿透测量空间内部的非均匀介质场折射形成平行于光轴的偏折光线进行汇聚成影像的物方远心光学系统；本发明采用彩色三步移相法，结合三维非均匀介质场的反积分曲线三维重建算法，通过投影屏和远心光学系统的组合设置，实现了对非均匀介质场的测量光线的准确追迹及对三维空间折射率的瞬态折射特性测量，大大提高了测量精确度和效率；并且该系统整体设计精密，测量精度高，成本较低，应用范围广，具有重要的理论意义和工程应用价值，适合推广应用。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 哈特曼 光线 均匀 介质 测量 系统 及其 方法 | ||
【主权项】：
1.基于哈特曼光线追迹的非均匀介质场的测量系统，其特征在于：包括内部存在非均匀介质场的测量空间(3)、用于向测量空间(3)射出球面入射光线的投影屏(2)、用于对投影屏(2)上的光点射出的球面入射光线穿透测量空间(3)内部的非均匀介质场折射形成平行于光轴(1)的偏折光线进行筛选并汇聚成影像的物方远心光学系统，测量空间(3)位于投影屏(2)与物方远心光学系统之间；采用彩色三步移相法对影像进行计算并得到相位信息，通过相位信息确定影像的光学折射特性和对应关系；采用反积分曲线三维重建算法计算得到测量空间(3)内部存在的非均匀介质场折射率的变化数据。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国计量大学，未经中国计量大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910164088.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
