[发明专利]五元杂芳环衍生物、其制备方法、药物组合物及应用有效
申请号: | 201910062130.0 | 申请日: | 2019-01-23 |
公开(公告)号: | CN110156656B | 公开(公告)日: | 2023-04-07 |
发明(设计)人: | 高大新;杨伟;李国成 | 申请(专利权)人: | 上海迪诺医药科技有限公司 |
主分类号: | C07D207/34 | 分类号: | C07D207/34;C07D401/04;C07D401/12;C07D401/14;C07D498/04;A61P31/12;A61P35/00;A61P35/02;A61P19/02;A61P29/00;A61P1/12;A61P3/00;A61P1/16;A61P17 |
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地址: | 201203 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: |
本发明公开了五元杂芳环衍生物、其制备方法、药物组合物及应用。本发明的五元杂芳环衍生物(I)、其异构体、前药、稳定的同位素衍生物或药学上可接受的盐具有如下结构。本发明的五元杂芳环衍生物具有良好的IDO抑制作用,可以有效治疗、缓解和/或预防由于免疫抑制所引起的各种相关疾病,例如肿瘤、病毒感染或自身免疫性疾病等。 |
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搜索关键词: | 五元杂芳环 衍生物 制备 方法 药物 组合 应用 | ||
【主权项】:
1.一种五元杂芳环衍生物(I)、其异构体、前药、稳定的同位素衍生物或药学上可接受的盐;
其中,A环为吡咯环或咪唑环,并且,X、Y、Z选自如下组合:1)X为NR1、Y为CR2和Z为CR3;2)X为CR2、Y为NR1和Z为CR3;3)X为CR3、Y为CR2和Z为NR1;4)X为CR3、Y为NR1和Z为CR2;5)X为NR1、Y为CR2和Z为N;或6)X为N、Y为CR2和Z为NR1;L为CH2、CH(CH3)、C(CH3)2、或CH2CH2;U和V分别独立地选自N或CR4;Cy为苯环或5‑10元杂芳环,所述Cy为未取代或者进一步被1~4个选自卤素、C1‑6烷基、C1‑6烷氧基、C1‑6烷硫基、卤代C1‑6烷基、卤代C1‑6烷氧基、C2‑6炔基、C2‑6烯基、C3‑6环烷基、‑OH、‑SH、‑CN、‑NO2、‑OC(O)Ra、‑OC(O)ORb、‑OC(O)N(Rb)2、‑C(O)ORb、‑C(O)Ra、‑C(O)N(Rb)2、‑NRbC(O)Ra、‑N(Rb)2、‑NRbC(O)Ra、‑S(O)0‑2Ra和‑S(O)2N(Rb)2中的一种或多种取代基取代在任意位置;R为环烷基、杂环烷基、芳基或杂芳基;所述R为未取代或者进一步被1~3个RA基团取代在任意位置:‑CN、‑ORa、‑C(O)N(Rb)2、‑OC(O)Ra、‑OC(O)ORb、‑OC(O)N(Rb)2、‑C(O)ORb、‑C(O)Ra、‑C(O)N(Rb)2、‑N(Rb)2、‑NRbC(O)Ra、‑NRbC(O)Ra、‑NRbC(O)ORa、‑NRbC(O)N(Rb)2、‑NRbC(O)N(Rb)2、‑NRbS(O)2Ra、‑NRbS(O)2N(Rb)2、‑S(O)0‑2Ra、‑S(O)2N(Rb)2、卤素、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的杂环烷基、或取代或未取代的杂芳基;RA中,所述烷基、烷氧基、芳基、杂芳基、环烷基、或杂环烷基被取代时,可进一步被1~3个选自卤素、羟基、氨基、C1‑4烷基、或卤代C1‑3烷氧基的取代基取代在任意位置;R1为H、‑C(O)N(Rb)2、‑C(O)Ra、‑C(O)ORa、‑S(O)2N(Rb)2、‑S(O)2Ra、取代或未取代的C1‑6烷基、取代或未取代的C2‑6烯基、取代或未取代的C2‑6炔基、取代或未取代的C3‑8环烷基、取代或未取代的苯基、或取代或未取代的5‑6元杂芳基;所述C1‑6烷基、C2‑6烯基、C2‑6炔基、C3‑8环烷基、3‑8元杂环烷基、苯基、或5‑6元杂芳基被取代时优选被1~3个选自:氘、卤素、羟基、巯基、氨基、氰基、C1‑3烷基、C1‑3烷氧基、C1‑3烷胺基、卤代C1‑3烷氧基、卤代C1‑3烷基、羧酸、酯基、酰胺基、‑NH(CO)‑C1‑6烷基、‑C(O)‑C1‑6烷基、‑S(O)0‑2‑C1‑6烷基、C3‑8环烷基、或3‑8元杂环烷基的取代基取代在任意位置;R2为卤素、‑CN、‑ORa、‑C(O)N(Rb)2、‑C(O)Ra、‑C(O)ORa、‑S(O)2N(Rb)2、‑S(O)2Ra、‑N(Rb)2、‑NRbC(O)Ra、取代的C1‑6烷基、取代或未取代的C2‑6烯基、取代或未取代的C2‑6炔基、取代或未取代的C3‑8环烷基、或取代或未取代的3‑8元杂环烷基、取代或未取代的苯基、或取代或未取代的5‑6元杂芳基;当所述C1‑6烷基被取代时可选择性被1~3个选自卤素、C1‑4烷氧基、卤代C1‑4烷氧基、C1‑4烷胺基、‑OH、‑NH2和‑CN中的一种或多种取代基取代在任意位置;当所述C2‑6烯基、C2‑6炔基、C3‑8环烷基、3‑8元杂环烷基、苯基或5‑6元杂芳基被取代时可选择性被1~3个选自氘、卤素、C1‑4烷基、C1‑4烷氧基、卤代C1‑4烷基、卤代C1‑4烷氧基、C1‑4烷胺基、‑OH、‑NH2和‑CN中的一种或多种取代基取代在任意位置;R1和R2为独立取代基,或者R1和R2相互连接形成5‑10元杂环烷基或者5‑6元杂芳基;所述5‑10元杂环烷基还可进一步包含1~3个选自N、O、S(O)0‑2、C(O)的杂原子或基团;所述5‑10元杂环烷基或者5‑6元杂芳基为未取代或者进一步被1~3个选自卤素、C1‑4烷基、C1‑4烷氧基、卤代C1‑4烷基、卤代C1‑4烷氧基、C1‑4烷胺基、‑OH、‑NH2和‑CN中的一种或多种取代基取代在任意位置;R3为H、氘、卤素、氰基、酰胺基、酯基、或C1‑3烷基;R4为H、‑OH、‑CN、C1‑6烷基、或C1‑6烷氧基;每个Ra和每个Rb各自独立地选自氢、烷基、卤代烷基、环烷基、杂环烷基、芳基、杂芳基、杂环烷基烷基、环烷基烷基、芳基烷基、或杂芳基烷基,或者,两个Rb与它们共同连接的N原子一起形成3‑8元的单环杂环烷基;m为1、2或3;n为0、1或2。
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