[发明专利]一种晶片清洗方法在审
| 申请号： | 201910059147.0 | 申请日： | 2019-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN109848092A | 公开（公告）日： | 2019-06-07 |
| 发明（设计）人： | 林生海;陈景韶;葛林五;葛林新;李杰;丁高生 | 申请（专利权）人： | 上海提牛机电设备有限公司 |
| 主分类号： | B08B1/02 | 分类号： | B08B1/02;B08B3/02;B08B5/02;F26B5/08 |
| 代理公司： | 上海智力专利商标事务所(普通合伙) 31105 | 代理人： | 周涛 |
| 地址： | 201405 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种晶片清洗方法，该清洗方法包括：清洗时，晶片具有第一自转，刷头在晶片上做往返的弧线运动，弧线运动的往返点超出或重合于晶片的边沿；清洗后，晶片具有第二自转，用来甩干晶片表面的残留清洗液。本发明的有益效果为刷头在晶片上做往返的弧线运动并配合晶片自转，实现了对晶片的全面覆盖清洗；晶片自转的同时，刷头也按照一定速度旋转，且两者旋转的方向相反，使得清洗更为有力高效；配合二流体来清洗，一方面取得更细微的水微粒，更好的与刷头配合清洗晶片，另一方面二流体中的氮气使得水微粒的动能更大，更好的带走微尘，调整水气比例还可以取得不同的清洗效果，适应更多类型的晶片。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片 清洗 自转 刷头 弧线运动 往返 水微粒 流体 种晶 氮气 配合 方向相反 晶片表面 清洗晶片 清洗效果 全面覆盖 多类型 清洗液 动能 水气 重合 甩干 微尘 残留 | ||
【主权项】：
1.一种晶片清洗方法，其特征在于，该清洗方法包括：清洗时，晶片（100）具有第一自转，刷头（200）在晶片（100）上做往返的弧线运动，弧线运动的往返点超出或重合于晶片（100）的边沿（110）；清洗后，晶片（100）具有第二自转，用来甩干晶片（100）表面的残留清洗液。
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