[发明专利]用于晶圆检查的高级充电控制器的方法和设备在审
| 申请号： | 201880063511.4 | 申请日： | 2018-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN111164727A | 公开（公告）日： | 2020-05-15 |
| 发明（设计）人： | 张剑;陈庆久;王義向 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/22 | 分类号： | H01J37/22;G01N23/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 张昊 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了一种用于光束的高级充电控制的系统和方法。该系统包括：激光源，包括用于发射束的激光二极管；以及束均匀器，用于均匀所发射的束。系统和方法还包括：束成形器，被配置为使用变形棱镜组对发射的束进行整形；以及驱动器，被配置为将成形的束引导到晶圆上的指定位置，其中激光源、束成形器和驱动器同轴对准。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 检查 高级 充电 控制器 方法 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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