[发明专利]聚合物电解质膜的后处理方法有效
| 申请号： | 201880052956.2 | 申请日： | 2018-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN110997293B | 公开（公告）日： | 2022-06-17 |
| 发明（设计）人： | 裵仁圣;金赫;尹盛炫 | 申请（专利权）人： | 株式会社LG化学 |
| 主分类号： | B29C71/02 | 分类号： | B29C71/02;B29C55/02;B29C71/00;H01M8/1086;H01M8/1018 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 李静;黄丽娟 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本说明书涉及一种聚合物电解质膜的后处理方法，该后处理方法对包含烃类共聚物的聚合物电解质膜进行退火并同时进行拉伸。 | ||
| 搜索关键词： | 聚合物 电解 质膜 处理 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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