[发明专利]用于清洗阵列板上的样品的方法、设备和装置在审
| 申请号： | 201880037246.2 | 申请日： | 2018-04-05 |
| 公开（公告）号： | CN110709979A | 公开（公告）日： | 2020-01-17 |
| 发明（设计）人： | 金南镕;陈广隆 | 申请（专利权）人： | 科睿思生物科技(私人)有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/02 |
| 代理公司： | 11602 北京市汉坤律师事务所 | 代理人： | 张涛;吴丽丽 |
| 地址： | 新加坡*** | 国省代码： | 新加坡;SG |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于清洗颗粒物的方法，包括：获取具有由一个或多个疏水区域环绕的亲水区域阵列的阵列板，其中，含有样品的相应溶液位于所述亲水区域阵列的一个相应亲水区域；所述相应亲水区域包括自所述一个或多个疏水区域的一个相应环绕疏水区域形成的一个或多个缺口；所述相应亲水区域包括偏离所述相应环绕疏水区域界定的参考面的第一缺口面。所述方法还包括：将吸液器吸嘴放置于所述相应亲水区域的上方、与所述第一缺口面相距预定距离；以及当所述吸液器吸嘴位于与所述第一缺口面相距预定距离的位置时，通过所述吸液器吸嘴吸取所述溶液。 | ||
| 搜索关键词： | 亲水区域 疏水区域 缺口面 吸液器 吸嘴 预定距离 环绕 相距 颗粒物 阵列板 界定 清洗 偏离 参考 | ||
【主权项】：
1.一种用于清洗阵列板的装置，所述装置包括：/n一个或多个分液器，所述一个或多个分液器中的一个相应分液器配置为将第一液体分配到所述阵列板上，所述相应分液器包括：/n第一活塞，其配置为至少部分在第一通道内滑动；以及/n第一阀门，其配置为允许通过所述第一阀门从所述第一通道分配所述第一通道中的所述第一液体，以及防止液体通过所述第一阀门进入所述第一通道。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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