[实用新型]一种软X射线光源有效
申请号: | 201822254811.0 | 申请日: | 2018-12-29 |
公开(公告)号: | CN209659697U | 公开(公告)日: | 2019-11-19 |
发明(设计)人: | 刘炜;郑睿;谢庆国;肖鹏 | 申请(专利权)人: | 苏州瑞派宁科技有限公司 |
主分类号: | H05G2/00 | 分类号: | H05G2/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215163 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本申请公开了一种软X射线光源,包括真空靶室、制冷腔和喷嘴,制冷腔和喷嘴容置于真空靶室内,喷嘴设置于制冷腔上,软X射线光源还包括支撑板、波纹管和三维位移机构,支撑板设置于真空靶室上,支撑板上设置有穿过支撑板的制冷剂入口管道、制冷剂出口管道和工作气体管道,制冷剂入口管道和制冷剂出口管道与制冷腔连通,工作气体管道穿过制冷腔并与喷嘴连接;波纹管设置于支撑板与真空靶室之间,制冷剂入口管道、制冷剂出口管道和工作气体管道均从波纹管内部穿过;三维位移机构设置于支撑板与真空靶室之间。本申请可以实现在X、Y、Z三轴方向上调节喷嘴位置。 | ||
搜索关键词: | 支撑板 制冷腔 真空靶室 喷嘴 制冷剂出口管道 工作气体管道 制冷剂入口 波纹管 软X射线光源 三维位移 穿过 机构设置 喷嘴位置 三轴 申请 连通 室内 | ||
【主权项】:
1.一种软X射线光源,所述软X射线光源包括真空靶室、制冷腔和喷嘴,所述制冷腔和所述喷嘴容置于所述真空靶室内,所述喷嘴设置于所述制冷腔上,其特征在于,所述软X射线光源还包括:/n支撑板,所述支撑板设置于所述真空靶室上,所述支撑板上设置有穿过所述支撑板的制冷剂入口管道、制冷剂出口管道和工作气体管道,所述制冷剂入口管道和所述制冷剂出口管道分别与所述制冷腔连通,所述工作气体管道穿过所述制冷腔并与所述喷嘴连接;/n波纹管,所述波纹管设置于所述支撑板与所述真空靶室之间,所述制冷剂入口管道、制冷剂出口管道和工作气体管道均从所述波纹管内部穿过;以及/n三维位移机构,所述三维位移机构设置于所述支撑板与所述真空靶室之间。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州瑞派宁科技有限公司,未经苏州瑞派宁科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201822254811.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 用于在LPP EUV光源中控制源激光器激发的系统和方法-201680047424.0
- D·里格斯;R·拉法克 - ASML荷兰有限公司
- 2016-08-05 - 2020-02-11 - H05G2/00
- 公开了用于改进激光产生等离子体(LPP)极紫外(EUV)生成系统中的源激光器的定时的方法和系统。由于等离子体室内的力,微滴的速度可以随着M靠近照射部位而减慢。由于微滴减慢,源激光器相对于减慢的微滴过早地激发,导致只有微滴的前沿部分被照射。由微滴生成的EUV能量的量与微滴的经减慢的速度成比例。为了补偿,基于所生成的EUV能量针对下一微滴延迟源激光器的激发。由于针对下一微滴延迟源激光器的激发,所以下一微滴更可能处于更加完全地被照射的位置,导致从下一微滴生成更多的EUV能量。
- 用于极紫外光源的供应系统-201880041155.6
- K·G·温克尔斯;G·O·瓦申科;T·W·德赖森;J·F·迪杰克斯曼;B·L·W·M·范德文;W·H·T·M·安格南特 - ASML荷兰有限公司
- 2018-06-19 - 2020-02-07 - H05G2/00
- 一种用于极紫外(EUV)光源的供应系统,包括:装置,被配置为被流体地耦合到贮存器,该贮存器被配置为包含在等离子体状态时产生EUV光的目标材料,该装置包括两个或多个目标形成单元,目标形成单元中的每个目标形成单元包括:喷嘴结构,被配置为从贮存器接收目标材料,该喷嘴结构包括孔口,该孔口被配置为将目标材料发射到等离子体形成位置的孔口。该供应系统还包括控制系统,该控制系统被配置为选择目标形成单元中的、用于将目标材料发射到等离子体形成位置的特定目标形成单元。一种用于超紫外线(EUV)光源的供应系统的装置,包括以半导体器件制造技术所制造的MEMS系统,并且该MEMS系统包括被配置为被流体地耦合到贮存器的喷嘴结构。
- 激光离子加速装置及应用其的医用激光离子治疗装置-201920292796.0
- 钱铁威 - 广东太微加速器有限公司
- 2019-03-08 - 2020-01-31 - H05G2/00
- 本实用新型提出了一种激光离子加速装置,包括靶室,所述的靶室内固定设有绝缘支架,绝缘支架上设有贯通靶室两侧的激光通道,激光通道的一端设有固体靶,还包括激光器,激光器的激光从激光通道的另一端射入,激光通道的一端连接有离子引出管,离子引出管延伸至靶室的外侧,离子引出管的端部连接有激光离子束优化组件。本实用新型提出一种激光离子加速装置及应用其的医用激光离子治疗装置,其激光离子加速装置能对激光束进行整形优化,以得到更好品质的激光束流,同时也可提高激光离子治疗装置的治疗效果。
- 极紫外光辐射源装置-201910572420.X
- 苏彦硕;张俊霖;张汉龙;陈立锐;郑博中 - 台湾积体电路制造股份有限公司
- 2019-06-28 - 2020-01-07 - H05G2/00
- 一种极紫外光辐射源装置包含收集器镜、为产生锡滴的靶材滴产生器、可旋转残屑收集元件、为产生感应耦合电浆的一或多个线圈、为提供用于感应耦合电浆的来源气体的气体入口、以及至少包围收集器镜与可旋转残屑收集元件的腔室。配置气体入口与前述一或多个线圈以致感应耦合电浆与收集器镜间隔设置。
- 一种软X射线光源-201822254811.0
- 刘炜;郑睿;谢庆国;肖鹏 - 苏州瑞派宁科技有限公司
- 2018-12-29 - 2019-11-19 - H05G2/00
- 本申请公开了一种软X射线光源,包括真空靶室、制冷腔和喷嘴,制冷腔和喷嘴容置于真空靶室内,喷嘴设置于制冷腔上,软X射线光源还包括支撑板、波纹管和三维位移机构,支撑板设置于真空靶室上,支撑板上设置有穿过支撑板的制冷剂入口管道、制冷剂出口管道和工作气体管道,制冷剂入口管道和制冷剂出口管道与制冷腔连通,工作气体管道穿过制冷腔并与喷嘴连接;波纹管设置于支撑板与真空靶室之间,制冷剂入口管道、制冷剂出口管道和工作气体管道均从波纹管内部穿过;三维位移机构设置于支撑板与真空靶室之间。本申请可以实现在X、Y、Z三轴方向上调节喷嘴位置。
- 专利分类