[实用新型]一种掩模版透过率的测量装置有效
| 申请号： | 201822147081.4 | 申请日： | 2018-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN209296576U | 公开（公告）日： | 2019-08-23 |
| 发明（设计）人： | 赵晓伟;袁剑峰;李煜芝 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/59 | 分类号： | G01N21/59;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种掩模版透过率的测量装置，测量原理简单有效。可在工作台上安装点阵或者面阵CCD，并借助曝光照明单元，使用CCD采集掩模版阵列周期性图像信息及无掩模版时的背景图像信息。利用特定的图像算法处理这些图像信息，得到掩模版透过率。本实用新型提出的装置利用光刻机本身的结构测量掩模版的透过率，可实时处理得到的图像信息，利用灰度值得到掩模版的透过率，极大的提升了测试效率且能保证测试精度。 | ||
| 搜索关键词： | 掩模版 透过率 本实用新型 测量装置 图像信息 背景图像信息 图像算法处理 周期性图像 点阵 测量原理 测试效率 结构测量 曝光照明 实时处理 面阵CCD 光刻机 灰度 采集 测试 保证 | ||
【主权项】：
1.一种掩模版透过率的测量装置，其特征在于，包括掩模版、测量模块以及计算模块；所述测量模块包括照明单元、投影物镜以及探测单元；所述探测单元用于接收所述掩模版的周期性图像以及背景图像；所述周期性图像为所述照明单元的光依次透过所述掩模版上的图形区和所述投影物镜后形成的图像；所述背景图像为所述照明单元的光依次透过所述掩模版上的非图形区和所述投影物镜后形成的图像，或所述照明单元的光直接透过所述投影物镜后形成的图像；所述计算模块与所述探测单元通信连接，并用于根据所述背景图像和所述周期性图像得到所述掩模版的透过率。
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