[实用新型]一种用于制备单晶碳化硅的装置有效

专利信息
申请号: 201821803127.7 申请日: 2018-11-02
公开(公告)号: CN209481852U 公开(公告)日: 2019-10-11
发明(设计)人: 李霞;高超;梁晓亮;宁秀秀;李宏刚;宗艳民 申请(专利权)人: 山东天岳先进材料科技有限公司
主分类号: C30B29/36 分类号: C30B29/36;C30B23/06
代理公司: 济南千慧专利事务所(普通合伙企业) 37232 代理人: 吴绍群
地址: 250100 山东省济南市高新区*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 实用新型提出了一种用于制备单晶碳化硅的装置,所述装置包括:至少第一坩埚和第二坩埚、至少两个加热元件以及保温结构;其中,所述至少第一坩埚和第二坩埚相互连通;每个坩埚对应至少一个加热元件;每个坩埚的加热是独立控制的。采用本实用新型的双坩埚进行单晶碳化硅的生产,在晶体生长阶段中后期,可为长晶用的坩埚提供硅气氛补充,可减少甚至消除晶体碳包裹体的形成。
搜索关键词: 坩埚 单晶碳化硅 本实用新型 加热元件 制备 晶体生长阶段 保温结构 独立控制 包裹体 晶体碳 双坩埚 加热 连通 补充 生产
【主权项】:
1.一种用于制备单晶碳化硅的装置,其特征在于,所述装置包括:至少第一坩埚和第二坩埚、至少两个加热元件以及保温结构;其中,所述至少第一坩埚和第二坩埚相互连通;每个坩埚对应至少一个加热元件;每个坩埚的加热是独立控制的。
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