[实用新型]化学气相沉积设备

摘要

本实用新型提供一种化学气相沉积设备。该设备包括反应腔，反应腔内包括多个用于承载衬底的基座，多个基座为圆盘形，工艺气体通过管路进入反应腔，多个基座中的每个基座彼此之间并列排布，各个基座的圆心在同一直线上；各个基座承载衬底的上表面彼此相互平行或在同一平面上；各个基座的转动轴线在同一平面上，各个基座相对于彼此独立地旋转；以及工艺气体沿各个基座的上表面，垂直于各个基座的各个圆心的连线方向流动。

主权项

1.一种化学气相沉积设备，包括反应腔，所述反应腔内包括多个用于承载衬底的基座，所述多个基座为圆盘形，工艺气体通过管路进入所述反应腔，其特征在于，所述多个基座中的每个所述基座彼此之间并列排布，各个所述基座的圆心在同一直线上；各个所述基座的承载所述衬底的上表面彼此相互平行或在同一平面上；各个所述基座的转动轴线在同一平面上，各个所述基座相对于彼此独立地旋转；以及所述工艺气体沿各个所述基座的所述上表面，以垂直于各个所述基座的各个所述圆心的连线为方向流动。