[实用新型]一种新型气相沉积法制备石墨烯的生产装置有效
申请号: | 201821414463.2 | 申请日: | 2018-08-30 |
公开(公告)号: | CN209010597U | 公开(公告)日: | 2019-06-21 |
发明(设计)人: | 李朝阳;张留新;樊利芳;阮诗伦;王新宇 | 申请(专利权)人: | 郑州大工高新科技有限公司;大连理工大学重大装备设计与制造郑州研究院 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C01B32/186 |
代理公司: | 郑州浩德知识产权代理事务所(普通合伙) 41130 | 代理人: | 边鹏 |
地址: | 450000 河南省郑州市自贸试验区*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 本实用新型涉及石墨烯的生产的技术领域,尤其涉及一种新型气相沉积法制备石墨烯的生产装置,包括传送架体、设置在传送架体上的传送装置、设置在传送架体的后边缘处的气相反应窑、以及设置在传送架体前方的机械手,所述的传送装置包括传送架体上设置的一圈传送带,所述的传送带沿着传送架体的边缘围成一圈和沿着传送架体的边缘进行顺时针传动。本实用新型结构简单、设计合理,可规模化生产高质量石墨烯,减少了对环境的污染。 | ||
搜索关键词: | 传送架体 石墨烯 本实用新型 传送装置 气相沉积 生产装置 传送带 规模化生产 气相反应 机械手 后边缘 顺时针 传动 污染 生产 | ||
【主权项】:
1.一种新型气相沉积法制备石墨烯的生产装置,包括传送架体、设置在传送架体上的传送装置、设置在传送架体的后边缘处的气相反应窑、以及设置在传送架体前方的机械手,其特征在于:所述的传送装置包括传送架体上设置的一圈传送带,所述的传送带沿着传送架体的边缘围成一圈和沿着传送架体的边缘进行顺时针传动,所述的气相反应窑包括沿着传送架体的后边缘从左到右依次设置有窑体预热区、窑体加热反应区以及冷却区,所述的传送架体的后边缘处的传送带依次穿过窑体预热区、窑体加热反应区以及冷却区,所述的窑体预热区上设置有保护气体入口,所述的窑体加热反应区上设置有反应气体入口,所述的冷却区上设置有冷却气体入口,所述的机械手用于向传送带上装载半成品基材和从传送带上卸载码垛成品。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的